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HKW-Anlagen-Verordnung

Die Verordnung gilt für Anlagen, in denen halogenierte, organische Lösungsmittel eingesetzt werden

Am 13. Dezember 2005 wurde die Verordnung über die Begrenzung der Emissionen bei der Verwendung halogenierter organischer Lösungsmittel in gewerblichen Betriebsanlagen (HKW-Anlagen-Verordnung – HAV) im Bundesgesetzblatt (BGBl. II Nr. 411/2005) kundgemacht. Sie trat mit 1. Jänner 2006 in Kraft und ersetzte die CKW-Anlagen-Verordnung 1994. Für bestehende genehmigte Anlagen sind Übergangsbestimmungen vorgesehen. 

Geltungsbereich:

Unter HKW-Anlagen werden Maschinen oder Geräte verstanden, in denen halogenierte organische Lösungsmittel zum Reinigen, Trocknen, Entfetten, Befetten, Extrahieren, Raffinieren oder sonstigen Behandeln von metallischen oder nichtmetallischen Gegenständen oder Materialien oder Zubereitungen oder Stoffen verwendet werden, sowie jene mit diesen Maschinen oder Geräten in Verbindung stehende Geräte und Einrichtungen, die der Reinigung der Abgase oder der Reinigung oder Regeneration der verunreinigten verwendeten halogenierten organischen Lösungsmittel oder der Lagerung von halogenierten organischen Lösungsmitteln oder von mit halogenierten organischen Lösungsmitteln behafteten Abfällen dienen.

Ausgenommen vom Anwendungsbereich der HKW-Anlagen-Verordnung sind jedoch Betriebsanlagen gemäß Anlage 3 Z 4 GewerbeO 1994 (das sind IPPC-Anlagen der Chemischen Industrie) oder Anlagen, die in den Geltungsbereich der VOC-Anlagen-Verordnung – VAV, BGBl. II Nr. 301/2002 idgF. fallen, mit Ausnahme jener Anlagen, in denen Tätigkeiten gemäß Anhang 1 Z 2 ("Reinigung der Oberflächen von Materialien oder Produkten") oder Z 8 ("Chemisch-Reinigung") zur VAV durchgeführt werden.

Neben Regelungen über die Ausgestaltung des Aufstellungsraumes des HKW-Anlagen sind vor allem die Bestimmungen über die Begrenzung der Emissionen sowie die entsprechenden Mess-, Überwachungs- und Berichtspflichten zu beachten. 

Weitere Informationen:

HKW-Anlagen-Verordnung (Verordnungstext)

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